大连理工大学考研，大连理工大学考研分数线
集微网消息，大连理工大学官网报道，该校物理学院PSEG团队成功研发自主知识产权的等离子体工艺腔室仿真软件，助力半导体制造设备国产化进程。
报道称，刻蚀和薄膜沉积设备配备的等离子体工艺腔室，不仅涉及精密机械加工技术，电源、气体、材料等外部参数也会对等离子体放电过程产生复杂影响，工艺环境的分析及与晶圆处理工艺的适配，迫切需要仿真软件支撑。
该校物理学院PSEG团队在王友年教授的带领下，从2005年开始，历时十余年时间，在国内率先研发出等离子体工艺腔室仿真软件—MAPS（Multi-Physics Analysis of Plasma Sources），可同时为等离子体工艺腔室的参数设计和表面处理工艺的结果预测提供模拟。
经PSEG团队大量研究，MAPS模拟结果与实验测量结果在量级和变化趋势上达到一致，证明了该仿真软件的可靠性。
近期，针对CCP和ICP等离子源，MAPS仿真软件还更新了仿真算法，模拟速度有进一步提高。
据报道透露，截至目前MAPS仿真软件已分别为北方华创、中微半导体设备（上海）、拓荆科技、苏州迈为、武汉长江存储等多家企业提供仿真服务。（校对/乐川）
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